技术特点及用途
该系统是根据目前***先进的微波结构理念,设计和研制的一套多用途、高稳定中等压强微波等离子体综合实验和加工设备。它具有工作容积大、性能先进、结构独特,使用方便、安全可靠、外形美观,特别适合应用于金刚石、类金刚石薄膜等多种材料的化学汽相沉积(CVD)制备等高新科技领域。
系统选用10套1kW高稳定程控微波功率源(10kW微波功率源)。内部单片机提供方便程控,采用了先进的磁控管灯丝降压跟踪技术,无电容电感滤波的高精度电压反馈调整稳定技术,磁控管水冷技术,以及完善的线路安全闭锁控制系统,使其工作寿命长,电气性能优良,安全可靠,操作简单方便。
本系统采用***新研制的具有特殊结构的微波反应腔和多管全方位分布馈能结构,以及专门设计的微波抑制段,并配以大容积石英放电腔。使微波功率集中,放电均匀,并能充满整个放电腔,从而达到快速大面积沉积薄膜的目的。
采用专门设计的真空管路,并配以直联式机械泵前级抽气,以及薄膜真空测控系统。使系统具备有从大气到1×10-1Pa的中低压强和10K~100Kpa的测量范围,方便控制和读数。
采用三路气体供给和控制系统,内置于设备机柜中,气路短、紧凑、控制调节方便。
系统采用紧凑简洁的主体结构,以及独立的控制单元。使整套设备外形美观,操作简便可靠。
技术参数
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产品型号:
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HMPS-2100
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微波源:
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HMG-2100
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工作频率:
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2450±50MHz
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输出功率:
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1 ~ 10kW 连续可调
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馈能方式
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多管全方位馈能
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冷却水流量:
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/min
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微波泄漏
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符合国家标准
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微波反应腔和放电腔
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反应腔容积
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(长),
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石英放电腔
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φ100×。并提供φ180的备用接口
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真空系统
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真空泵抽速
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/min
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极限真空度
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优于1×10-1Pa
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质量流量系统
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三路MFC系统
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各气路量程由用户确定
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